[2015.01.25] 慶應義塾大学と当社の共同研究論文が第28回ダイヤモンドシンポジウム最優秀賞を受賞！

慶應義塾大学大学院理工学研究科と弊社研究開発チームが共同発表した論文「部分安定化ジルコニアから脱離する酸素を利用したダイヤモンド薄膜の低温合成と密着性への影響」が第28回ダイヤモンドシンポジウムからポスターセッション・最優秀賞を受賞しました。一般社団法人ニューダイヤモンドフォーラムは、CVDダイヤモンドを中心とするニューダイヤモンドの技術開発、ならびに新用途分野開発に向けて、産学官の研究者・技術者の情報交換・相互研鑽を通して、ニューダイヤモンドの発展を追及すること等を目的としています。

【受賞内容】
日 時： 平成26年11月19日～21日
場 所： 東京電機大学　丹羽ホール
ポスターセッション最優秀賞：慶應義塾大学大学大学院理工学研究科　西山　祐太
テーマ：「部分安定化ジルコニアから脱離する酸素を利用したダイヤモンド薄膜の低温合成と密着性への影響」
関連リンク：http://jndf.org/katsudo/symposium/sympo-award.html